真空井式坩堝爐是由氧化鋯坩堝或者氧化爐坩堝。工作溫度區(qū)間800℃至1600℃。該系列設(shè)備的控制系統(tǒng)，具有安全可靠，操作簡單，控溫度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高，可通氣氛抽真空等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于高等院校，科研院所，工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)。 真空井式坩堝爐以進(jìn)口含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，具有真空裝置，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。
主要用途：高校、科研院所、工礦企業(yè)主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片，也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等。
技術(shù)參數(shù)
| 產(chǎn)品型號 | AFD-2-17TP |
| 工作電源 | AC220V 50/60HZ |
| 爐膛尺寸 | 外徑150x內(nèi)徑130x高200mm |
| 額定功率 | ≤6kw |
| 外形尺寸 | 450x550x650mm |
| 重量 | 70kg |
| 升溫快速度 | 0~30℃/min（建議不超過20℃） |
| 產(chǎn)品特點(diǎn) | 可裝真空裝置，能在多種氣氛下工作，50段程序控溫 |
| 加熱元件 | 硅鉬棒 |
| 常用溫度 | ≤1500℃ |
| 高溫度 | 1600℃ |
| 控溫方式 | 50段智能化程序PID模糊控制 |
| 恒溫度 | ±1℃ |
| 控溫儀表 | 智能溫控儀 |
| 密封方式 | 全封閉 |
| 爐膛 | 氧化鋁多晶纖維爐膛，設(shè)計合理，經(jīng)久耐用，保溫性能好，節(jié)能 |
| 測溫元件 | B型熱電偶 |
| 爐門結(jié)構(gòu) | 上開式 |
| 主要配件 | 密封法蘭1套，坩堝1個，真空泵1臺，高溫手套1副,熱電偶1根等 |
| 大真空限 | ≤0.1MPa |
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